光学镀膜溅射单体机
设备功能:玻璃基材制备超硬AR膜系工艺指标:反射率<0.5%【波段区间:420~680 nm)表面硬度>9H透射率>95%a\b值区间:-3~2【按需定制】镀膜工件最大尺寸:【275*1400 mm】生产速度:40 min/炉【视工艺调整】
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设备功能:玻璃基材制备超硬AR膜系

工艺指标:

  • 反射率<0.5%【波段区间:420~680 nm)

  • 表面硬度>9H

  • 透射率>95%

  • a值区间:-3~2【按需定制】

  • 镀膜工件最大尺寸:【275*1400 mm】

  • 生产速度:40 min/炉【视工艺调整】




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